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2025年9月4日，备受瞩目的第十三届半导体设备材料与核心部件展示会在无锡太湖国际博览中心隆重举行。本届半导体设备年会以“做强中国芯，拥抱芯世界”为主题，汇聚了半导体设备制造商、传感器制造企业及产业链上下游企业，科研院所的专家学者，分享最新科研成果与实际应用案例，共同探讨如何通过技术创新赋能产业升级。
KANOMAX携尘埃粒子计数器、热式风速仪、风速变送器、微差压计等检测仪器亮相B3-328展位。
展台前人流涌动，半导体材料企业的研发人员、Fab厂的技术负责人纷纷驻足咨询，加野工作人员耐心细致地介绍仪器的性能特点、应用场景，并现场进行产品演示，让大家直观感受产品的出色性能。
粒子计数器在半导体制造环境中应用
在半导体芯片制造过程中，对生产环境的洁净度要求较高，必须禁止因粉尘颗粒、工艺偏差等因素造成晶体短路或断路，控制净化环境下的作业现场中超微小颗粒物数量，以保证产品质量和提升产品良率。
在半导体芯片生产过程中，粒子计数器主要应用于：
1. Fab厂的制造工艺检测：在晶圆的光刻、涂胶显影、刻蚀等多个工艺环节中，使用粒子计数器检测环境中的尘埃粒子，确保工艺的精确性。
2. 封装过程：在晶圆切割封装过程中，粒子计数器同样发挥着关键作用，保证封装质量。
3. 半导体设备生产工艺的质量监测：通过粒子计数器对设备工艺点进行监控，确保生产过程的稳定性和产品质量。
超小型尘埃粒子计数器3950，专为半导体芯片制造环境设计，其能够精准监测0.1μm和0.3μm的微小粒子，且具备致轻致小的优势，也可作为传感器嵌入生产设备实时监测作业现场的超微粒子，为净化作业环境的洁净度评定提供了可靠依据。凭借0.1μm级的精准检测技术，为 “中国芯” 制造的每一个微观环节筑牢质量防线。
风速仪在半导体制造环境中应用
在半导体制造中，显影、刻蚀、切割等关键工艺环节，其环境风速（洁净室及设备内部局部风速）直接影响工艺精度、良率及产品可靠性。合理的风速能形成稳定的 “层流/乱流场”，将微粒（如光刻胶残渣、刻蚀副产物、切割粉尘）带走，避免其附着在晶圆表面导致缺陷；
同时，风速异常（过高/过低/不均）会直接引发良率损失。例如，光刻环节风速波动5%可能导致线宽偏差0.03μm（7nm工艺线宽偏差允许值仅0.02μm），直接导致芯片失效。
涂胶显影设备对生产环境的洁净度要求较高，尤其是光刻胶涂布和显影过程中，微小的颗粒的污染可能导致光刻图案缺陷，影响芯片性能。需要通过风机过滤单元（FFU）高效过滤器（如HEPA或ULPA）提供洁净的空气，有效去除环境中的颗粒物，确保晶圆表面无污染，从而提高光刻图案的精度和成品率。
KANOMAX环境测试仪65Ser能够准确捕捉洁净室及设备内部的风速变化，无论是微小的风速波动还是局部区域的风速差异，同时测量风速、温度、湿度、压力、输入管道截面的形状及尺寸从而计算出风量，8种探头可供选择，凭借高精度、探头互换性、稳定性、易操作性及多参数测量显示等特点在半导体制造设备行业得到广泛应用。
KANOMAX在半导体洁净技术领域深耕多年，已经赢得了众多客户的信赖和认可。公司将持续加大研发投入，不断推出具有竞争力的新产品和新技术，满足市场的不断变化和升级需求，为推动半导体产业发展和进步做出更大的贡献。
感谢各位莅临加野KANOMAX展台参观交流，明日精彩继续，让我们共同见证半导体行业发展新征程！
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